Global Research Lab. (Ministry of Science, ICT&Future Planning)
1. Subject - Atomic scale control of two-dimensional materials and multi-dimensional interfaces
2. Collaboration - NDPL x Dr. James Hone group (@ Colombia Univ.)

3. Period - 2016.09~2022.06
4. Research contents
Area I
Study of unique physical properties of 2D crystals and interfaces
Area II
Synthesis and doping of multi-dimensional interfaces in 2D materials
Area III
Contact engineering of 2D heterostructures
Area IV
Physical characterization of multi-dimensional 2D interfaces
Global Frontier R&D (Ministry of Science, ICT&Future Planning)
1. Subject - 인공 두뇌급 고성능 소자 구현을 위한 3D 집적 반도체소재 원천기술 개발
2. Collaboration - NDPL x Byounghun Lee’s group (@ POSTEC)
2D hybrid 정보소재 합성 공정 개발 및 기초 연구
정보소재 합성공정 개발
정보소재/절연체, 전극, 기판 기초연구
2D 하이브리드 정보소재 인터페이스 전산모사 연구
RTP 가능한 대면적 액상 및 기상 2D 소재 공정 연구
BN 등 대체 절연체 및 저저항 금속 전극 공정 연구
최적 flexible 기판 기술 연구
2D 소재 물리적 물성 및 계면 물리 현상 연구
2D 계면의 기계적 및 전기적 분석 기술 개발
2D hybrid 정보소재 RTP 공정 및 3D 적층 단위 공정 연구
정보소재 RTP 공정 연구
정보소재 3D 적층 단위 공정 연구
2D 하이브리드 정보소재 RTP 공정 연구
2D 하이브리드 집적소재 3D 적층 단위 공정 연구
2D 하이브리드 직접소재의 3D 집적 후 물리적, 전기적 특성 연구
3D 적층 소재 응용소자 연구 및 집적기술 개발
3D 적층 기술 연구 및 최적화
RTP 기반 정보소재 최적화
3D 적층 기술 고도화 및 인터페이스 최적화 연구
3D 직접기술 적용 응용 소자 구현 및 특성 검증
RTP 기반 2D 정보소재 성능 최적화
3. Period - 2013.12 ~ 2022.12
4. Research contents
- - 저저항 금속 전극 공정 연구
- - 2D 소재 물리적 물성 및 계면 물리 현상 연구
- - 2D 소재 계면의 기계적 및 전기적 분석 기술 개발
- - 2D 소재 집적공정 연구 및 트랜지스터 소자 연구
- - 2D 소재 기반 신 소자 개념 연구
International Standard Technology Improvement Project - Graphene (Korean Agency for Technology Standards)
1. Subject - International standardization of the advanced material based product and the related converging product to be a competitive industry and overcome the export control
2. Collaboration - NDPL x 한국기초과학지원연구원(Korea Basic Science Institue)
3. Period - 2020.04~2023.12
4. Research contents
표준 제안/제정
전자/센서, 에너지, 바이오 응용을 위한 전자이동도 측정 표준 개발
전자/센서, 에너지, 바이오 응용을 위한 그래핀 전기전도도, 도핑농도 측정 표준 개발
환경소재 적용을 위한 그래핀 비표면적 측정 표준화 연구
나노기술 표준화
국제표준화활동
탄소나노소재 전기전도도 측정 국제표준문서 후속 작업 수행
국내 나노기술표준화 제안 활동 지원 및 전문가활동
표준기반조성활동
그래핀 표준화 로드맵 수립
그래핀 관련 정보 공유 포털 설계 및 서비스
그래핀 업계 표준화 교육 및 워크숍 개최
표준 제안/제정
전자/센서, 에너지, 바이오 응용을 위한 전자이동도 측정 표준 개발
전자/센서, 에너지, 바이오 응용을 위한 그래핀 전기전도도, 도핑농도 측정 표준 개발
환경소재 적용을 위한 그래핀 비표면적 측정 표준화 연구
나노기술 표준화
국제표준화활동
탄소나노소재 전기전도도 측정 국제표준문서 후속 작업 수행
국내 나노기술표준화 제안 활동 지원 및 전문가활동
표준기반조성활동
그래핀 표준화 로드맵 수립
그래핀 관련 정보 공유 포털 설계 및 서비스
그래핀 업계 표준화 교육 및 워크숍 개최
Basic Science Research Program (National Research Foundation of Korea)
1. Subject - CMOS Process Development via Fermi-level de-pinning of 2-D Materials
2. Period - 2021.03~2024.02
3. Research contents
Fermi level Depinning using hBN insulation layer

Development for 1D Contact and Metal Deposition

Doping technique via Plasma and Ozone treatment

2D material Schottky barrier height Analysis

Fermi level Depinning using hBN insulation layer
Development for 1D Contact and Metal Deposition
Doping technique via Plasma and Ozone treatment
2D material Schottky barrier height Analysis